Descripción:
Su microscopio de iones de haz múltiple para nanoestructuraciones por debajo de los 10nm
• Mecanizado rápido de estructuras de menos de 10 nm
Utilice los haces de iones de neón y helio para crear delicadas estructuras de menos de 10 nanómetros que exigen una fidelidad de mecanizado extremadamente alta. Ya sea que su aplicación sea la eliminación de material mediante pulverización catódica, grabado inducido por gas o deposición o litografía, ORION NanoFab sobresale en la fabricación de menos de 10 nm con velocidad y facilidad.
• Tres haces en un solo instrumento
Utilice galio FIB para eliminar material masivo. Aproveche el haz de neón para una nanomáquina de precisión con velocidad o use el haz de helio para fabricar delicadas estructuras de menos de 10 nm. Con los haces de iones de neón y helio evita la contaminación de los depósitos.
• Imágenes de alta resolución
Con una resolución de imagen de 0,5 nm, ORION NanoFab genera imágenes de alta resolución de su muestra en el mismo instrumento que utilizó para la fabricación.
